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        真空鍍膜設備

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        光學鍍膜機


          觀察光學鍍膜機靶陰極電弧的燃燒情況,每當電弧熄滅前,能發現電弧弧斑比較粗糙。有時甚至出現堆團狀弧斑。熄滅后觀察靶面已發紅,靶表面溫度很高。粗糙弧斑的出現,使弧電流較集中于靶面一點,導致了弧斑下靶面斑點電流過于集中,使弧斑下的靶面溫度很高而產生大量的熱電子發射。
          靶面局部大量的熱電子發射的結果,一方面中和了大量的空間電荷,使陰極表面上的電場成為減速場,甚至導致陰極表面上的電場等于零。另一方面,大量的熱電子發射對陰極表面產生相當大的冷卻作用。結果既沒有空間電荷產生的很大電場來維持表面發射,也不具備很高表面溫度來產生熱電子發射,導致電弧的熄滅。
          所以在光學鍍膜機多弧靶源的設計中,應注意給陰極靶以充分的冷卻,盡量采用直接水冷,間接水冷時,陰極座等相鄰部件應選用導熱性能良好的材料(如銅、鋁等)。

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