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真空鍍膜設備
科技創新為動力 專業服務為目標
常規配置 ? 真空泵系統 低真空泵:旋片式機械泵(蒸壓機械泵:930m3 h-1) 高真空泵:擴散泵(選擇:低溫泵或滑輪分子泵) ? 真空閥系統 型號:3/8”,2”,4”,22“ ? 真空室加熱系統 高溫度:0到400℃ 型號:滷素燈(選擇:微型加熱器) 基片型號:球面型或行星型 轉速:0到30轉速/分 軟起,軟停,可調速瀘 ? 電子控制系統 型號:計算機控制面板 可修改和改變任何需要的控制 全程控制鍍膜以達到產品所需的要求 提供所需要的技術信息 ? 真空計系統 高真空感應器:2 低真空感應器:1 |
選擇配置 ? 薄膜沉積控制系統 沉積控制:IC-5 (INFICON) MDC360 (MAXTEK)等等 石英晶髓感應器:1,2,6頭 ? 光控離子源 無柵型:直流型 燈絲型:直流型,頻射型 ? 電子束源 容量:15cc,25cc,40cc等等 偏轉角度:180度或270度 坩鍋:4,6,8倜等等 ? 深冷系統 除霜室 擴散泵 ? 水冷卻系統 水或氣冷卻器 |