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        真空鍍膜設備

        科技創新為動力 專業服務為目標
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        常規配置
        ? 真空泵系統
        低真空泵:旋片式機械泵(蒸壓機械泵:930m3 h-1)
        高真空泵:擴散泵(選擇:低溫泵或滑輪分子泵)

        ? 真空閥系統
        型號:3/8”,2”,4”,22“

        ? 真空室加熱系統
        高溫度:0到400℃
        型號:滷素燈(選擇:微型加熱器)
        基片型號:球面型或行星型
        轉速:0到30轉速/分
        軟起,軟停,可調速瀘

        ? 電子控制系統
        型號:計算機控制面板
        可修改和改變任何需要的控制
        全程控制鍍膜以達到產品所需的要求
        提供所需要的技術信息

        ? 真空計系統
        高真空感應器:2
        低真空感應器:1
        選擇配置
        ? 薄膜沉積控制系統
        沉積控制:IC-5 (INFICON)
        MDC360 (MAXTEK)等等
        石英晶髓感應器:1,2,6頭

        ? 光控離子源
        無柵型:直流型
        燈絲型:直流型,頻射型

        ? 電子束源
        容量:15cc,25cc,40cc等等
        偏轉角度:180度或270度
        坩鍋:4,6,8倜等等

        ? 深冷系統
        除霜室
        擴散泵

        ? 水冷卻系統
        水或氣冷卻器
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